HarmonyOS 组件曝光跟踪方案?

跟踪组件的曝光事件:

  1. 有效曝光:

    • 完全展示。
    • 露出部分。
  2. 曝光次数:

    • 一次session只曝光一次。
    • 可重复曝光多次。
  3. 结束曝光:

    • 完全消失后上报结束曝光(time of exposure)。

查阅了文档,没有找到能够准确实现一个自定义组件的展示和消失的无痕埋点方案。

请教一下,目前有没有针对以上需求的能力和开源代码。

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